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第277章 Arf光刻

  第二天。

  常乐在曾熙梁青松陪同下,来到沪微电子。

  之所以来沪微电子,主要原因是何融明告诉他,公司的光刻机研发,取得里程碑式的进展。

  第四代步进式投影式光刻机,即波长193纳米arf准分子激光光刻机(没有浸没系统的duv),研发成功。

  这意味着光刻最小工艺节点,将推进至65纳米。

  常乐原本不相信,或者怀疑。

  短短不到两年时间,能从第三代跨到第四代?

  常乐揣测可能是好大喜功的老毛病又犯了采用进口零部件组装。

  何融明毕竟是官僚体系出身。

  然,华红梁青松告诉他,不是虚言,而是真正地研发成功。

  沪微电子成功研发arf光刻机后,第一时间与华红半导体对接,得到了华红半导体的验证支持。

  验证结果表明,成功!

  华红半导体已经准备采购一批,面向国内客户爆产能。

  价格嘛,6000万一台,约1000万欧元一台,比asml便宜了50%。

  沪微电子门口,何融明率领公司高层静静等待。

  当车队开过来,何融明等人立即鼓起掌来。

  这不是形式,也不是程式。

  代表的是沪微电子全体同仁发自内心的欢迎和敬佩。

  三年多时间,不计成本上千亿专项研发资金砸入,带动了光刻机上下游供应链研发齐头并进。

  这个行业,尤其是上游的供应链企业何曾打过这么宽裕的仗?

  换谁,内心不激动不感慨不敬佩?

  三年来,青灯黄卷孜孜不倦终于不再是晨钟暮鼓道傍之筑;

  而是阶段性成就历史性成果。

  乐达投资的格局力度气魄令人心悦诚服。

  常乐下车。

  何融明立即走上前来,热情握手,态度足够恭敬:

  “老板,您可终于来了。”

  “哈哈,老何,听你在电话里说,我就不得不来,你给我了一个大惊喜啊。”常乐笑着说。

  “老板言重了,能够突破主要还是依赖母公司的支持,供应商的齐心协力。”何融明说。

  “谦虚了,管理和工程师们的努力,也是关键因素。”常乐说:

  “走吧,带我们去看看你们的成果。”

  “老板,曾总,梁总,诸位,这边请。”何融明带着众人走进研发楼,来到研发车间。

  车间内摆放着一台硕大的箱体设备。

  设备半敞开,内部密密麻麻的线路,连接着外行人完全看不懂的设备。

  至少常乐曾熙看不懂。

  “老板,这就是我们研发的第四代步进式投影式光刻机……”何融明介绍道:

  “它采用193纳米arf氟化氩准分子激光光源,可以将工艺制程推进到65纳米。”

  “这一代光刻机已经基本满足大部分半导体电子产品的需求。”

  “真正意义上的国产自主?”常乐确认一遍。

  “对!这台设备的10万多个零部件,哪怕是一颗螺丝钉都是国内厂商提供……

  “性能经过华红半导体验证,与asml相差无几。”何融明斩钉截铁地。

  “能够这么快自主研发成功,还是要归功于母公司的资金保障。”

  “因为资金保障充分,配套企业的研发积极性非常高,供应的产品性能和关键指标不断提升,目前已基本达到国际一流水准。”

  “核心组建方面,双工作台由华卓精科提供,光源由科益虹源提供,曝光系统由国科提供,国望光学供应了物镜系统,上光所供应了光栅系统……”

  “配套设施方面,南大光电供应光刻胶,华特气体供应光刻气体,华润微供应光掩膜版,东方晶源供应缺陷检测系统,芯源微供应涂胶显影……”

  何融明介绍的这些鼎鼎大名的企业,因为乐达投资的介入,较前世,已经提前数年成立并扬帆起航。

  各类顶级研发工程师纷纷加盟,积极对接和自发成为沪微电子的上下游配套企业,接受其研发安排和调度。

  钱能聚人心。

  听完何融明的介绍,常乐不明觉厉,高兴地说:

  “老何,辛苦了。”

  “阶段性目标的实现,比我想象中要来得早一些……”

  “我原来计划可能要10年左右才能突破。”

  “正常情况下,是这样。”何融明说:

  “老板,不瞒您说,我们原本也认为要花费较长一段时间。”

  “只是,一年多以前成功研发krf准分子光刻机后,我们发现研发进度研发效率在不断提升,试错成本一降再降。”

  “尤其是,华卓精科的双工件台,据他们说,几乎每一步都踏在正确的轨道上。”

  梁青松接着这个话题继续说:

  “老板,华红的研发也很顺利。”

  “接手沪微电子的光刻机后,在验证过程中,65纳米soc芯片一次流片成功率高达90%……”

  “节省了大量的研发时间和成本,让研发人员积极性大为提高。”

  听完介绍,常乐笑道:

  “看来,老天爷都看不下去了,开始垂怜我们了,让我们尽量少走一些弯路。”

  曾熙说:“这就是天道酬勤。”

  在场的人都笑了起来。

  何融明说:“是啊,天道酬勤。duv光刻机研发成功,给足了我们信心。只要坚持不懈,就一定可以抹平代差。”

  “我们与asml光刻机的差距客观存在,但至少不是30年40年这种令人绝望的差距。”

  “我们希望能在10年内,基本抹平代差,平起平坐。”

  梁青松说:“其实,我们也有优势,那就是沿着asml的轨迹走。不用摸着石头过河,试错成本最大限度降到最低。”

  常乐点头:“都说的很好。大家有这样的共识,就说明我们的认识一致行动一致,我们走在一条正确的道路上。”

  “伟人曾经说过,雄关漫道真如铁而今迈步从头越。只要我们心往一处想,力往一处使,就一定能够取得成功。”

  沪微电子食堂。

  众人聚在一起吃便饭自助餐。

  长条桌上,常乐看到零零散散上百道菜依次排开,囊括东南西北各种口味。

  常乐说:“老何,没有搞突击吧。”

  何融明摇头:“老板,放心,绝对没有搞突击。”

  “食堂我亲自抓,也曾带队去过母公司,还有乐达汽车的食堂,考察过。”

  “这么说吧,沪微电子的食堂,应该比母公司只好不差。”

  “因为我们高薪组建了厨师班,他们每天换着花样做。”

  “您现在看到的,都是平常工程师们的日常水准,逢年过节,厨师班还会超水平发挥一下。”

  常乐说:“这就好,研发工作非常耗费脑力和精力,在营养方面必须保障,经费绝对不能省。”

  接着,何融明谈到下一步研发重点。

  “下一步我们将着重攻坚浸入式步进式投影式光刻机,也就是arfi光刻。”

  “目前,我们的供应商启尔电机传来了好消息……”

  “他们的浸液系统,已经可以将高精度液体温差控制在0.001度,组件试验进展非常顺利,不久就将向我们供货。”

  “一旦自主arfi光刻机研发成功,那么我们与欧美光刻巨头的代差,将缩小到10年以内,仅一代差距。”

  “这不是一个令人绝望的鸿沟。”

  arfi光刻与arf光刻系出同源,都是深紫外线duv光刻机。

  区别就在于,前者多了一个浸液系统。

  通过该系统,将镜头与硅片之间的空间浸入液体中,在液体光折射作用下,能够使激光的实际波长大幅度缩短。

  即193纳米等效缩短到134纳米。

  从而,实现745纳米工艺制程。

  到了这个节点,至少10年内,是绝大多数半导体产品的主流。

  听完介绍,常乐问:“大概多久能够研发成功……”

  何融明说:“顺利的话,应该会在三年内投向市场,不顺利的话,时间很难估计。”

  常乐当即举起酒杯:“好,让我们共同预祝研发顺利!”

  “干杯!”

  “干杯!”

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